5nm光刻机的原理
关注：877 发布时间：2022-05-11 10:19:01
导语本文整理了5nm光刻机的原理经验知识，帮助您全面了解，小白也能成为高手，跟随小编一起来看一看吧！
1.光刻机可以分为芯片生产、封装和led制造。按光源和显影前后可分为紫外光源(uv)、深紫外光源(duv)、极紫外光源(euv)、光源的波长光刻工艺。光刻机可分为接触光刻、直写光刻和投影光刻。
2.原理：接近或接触光刻通过无限接近复制掩模板上的图案；直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工件台或透镜扫描实现任意图形加工。投影光刻因其效率高、无损伤等优点，是集成电路的主流光刻技术。
下一篇：土地性质有哪几种
猜你喜欢
热门生活经验
-
159041位用户关注
-
79422位用户关注
-
38001位用户关注
-
28086位用户关注
-
27313位用户关注
-
26934位用户关注